近期，中國科學(xué)院合肥物質(zhì)院固體所納米材料與器件技術(shù)研究部在M相二氧化釩 (VO2(M))熱敏材料的制備和紅外調(diào)控研究方面取得新進(jìn)展，成功制備了具有優(yōu)異可見光透過率和近紅外光調(diào)控能力的 VO2(M)薄膜 (Tlum=62.29%,  DTsol=14.91%)。相關(guān)成果發(fā)表在國際期刊 Materials Horizons 上。
 

　　VO2(M)是一種典型的熱致相變材料，在相變時(shí)可發(fā)生一階可逆的半導(dǎo)體-金屬相變，同時(shí)伴隨光學(xué)和電學(xué)性能的突變。VO2(M)的相變溫度為68 ℃，相變前材料對紅外光表現(xiàn)出高透過性，而相變后紅外光透過率呈現(xiàn)截止?fàn)顟B(tài)，同時(shí)電阻率會(huì)發(fā)生3~5個(gè)數(shù)量級的突變。基于其相變時(shí)的光電特性，VO2(M)在節(jié)能窗戶、光電開關(guān)、紅外隱身、可重構(gòu)濾波器、溫度/應(yīng)力傳感器等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。
 

　　釩是一種過渡金屬元素，對應(yīng)的釩氧化物種類和價(jià)態(tài)十分豐富，VO2也有近十種同質(zhì)異構(gòu)體，這為特定相結(jié)構(gòu)VO2(M)材料的高純度制備帶來很大困難，特別是高質(zhì)量VO2(M)納米顆粒的制備一直是研究者關(guān)注的焦點(diǎn)。水熱法具有成本低廉、可大面積制備且不依賴基底等優(yōu)點(diǎn)，并且在調(diào)控釩氧化物化學(xué)計(jì)量比方面具有明顯的優(yōu)勢。但目前水熱法一步合成VO2(M)還存在水熱溫度高(>240 ℃)、晶粒尺寸大、紅外調(diào)控不佳等缺點(diǎn)。
 

　　為此，研究人員發(fā)展了水熱和熱處理相結(jié)合的方法，制備了高質(zhì)量 VO2(M)納米粉體。首先采用相對溫和的水熱條件制備了超細(xì) VOOH納米顆粒 (~ 24.92 nm)，納米顆粒的形成由 Kirkendall擴(kuò)散過程主導(dǎo)。在此基礎(chǔ)上，對 VOOH納米顆粒進(jìn)行熱處理，獲得了高純度 VO2(M)納米顆粒 (~ 38.37 nm)，同時(shí)研究了不同退火時(shí)間下 VO2顆粒相變溫度和光學(xué)性能變化。為進(jìn)一步提高 VO2的環(huán)境耐受性，制備了 VO2@SiO2核殼結(jié)構(gòu)，結(jié)合理論模擬，探究了殼層厚度對其光學(xué)性能的影響。所制備的 VO2@SiO2/PVP薄膜表現(xiàn)出了良好的熱致變色性能，在可見光透過率為 62.29%時(shí)，其太陽光調(diào)制效率達(dá)到 14.91%。
 

　　上述工作得到了國家自然科學(xué)基金、合肥物質(zhì)院院長基金、貝內(nèi)克-長順汽車內(nèi)飾材料有限公司等項(xiàng)目的支持。
 

　　圖1. (a) Kirkendall效應(yīng)制備超細(xì)VOOH示意圖；(b) VOOH和(c) VO2(M)的SEM圖像；(d) VO2@SiO2的TEM圖像；(e) VO2@SiO2/PVP薄膜的光學(xué)性能數(shù)據(jù)；(f) VO2基柔性薄膜；(g) 熱致變色性能對比雷達(dá)圖。

 

　　圖2. (a-b) FS限域退火的VO2(M)的TEM圖像；(c) 聚合物輔助退火的VO2(M)的SEM圖像；(d) 不同厚度薄膜的高低溫透過率曲線；(e-f) 聚合物輔助退火的VO2(M)薄膜的疏水性能測試；(g-h) VO2@SiO2的TEM圖像和能譜分析；(i) 熱致變色性能對比。