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國防科大:實現光學零件超精加工的“納米標準”

OFweek光學網 2011-11-25

20世紀90年代,國內光學零件制造水平不高,大多采用“手工+機械拋光”的傳統加工技術,對于大口徑、高精度、復雜面形的光學零件我國制造能力有限,許多相關領域的技術進步常常要受困于此。
     新世紀之初,正在做訪問學者的國防科大精密工程創新團隊李圣怡教授了解到,國外一所大學已在研發磁流變加工設備,回校后他便帶領團隊進行潛心研究,終于弄清了磁流變加工技術原理,論證了該技術在光學加工上的優勢。于是,他們決定跳過一、二代的光學零件的制造加工技術,直接瞄準基于可控柔體制造的第三代光學加工方法,研制磁流變加工新技術。

     5年夜以繼日的奮力攻關,使他們終于研制成功我國首臺達到納米精度磁流變拋光裝備。再接再厲,團隊隨后又研制成功離子束打拋光裝備,終于突破了大型光學零件高效、高精度、無損傷制造的技術瓶頸,使我國超高精度光學零件加工進入到納米精度的世界先進水平。
將光學零件面形精度峰谷值控制在5納米以內。5納米,意味著哪怕一個細菌就會導致整個面形崩潰,只能逐層分子、逐層分子地進行去除加工。國家的需求就是攻關方向,為此創新團隊最終實現了5納米的精度要求。

 

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